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| 第16讲:SiC SBD的特性 SBD(肖特基势垒二极管)是一种利用金属和半导体接触,在接触处形成势垒,具有整流功能的器件。Si SBD耐压一般在200V以下,而 https://news.ca168.com/202509/140582.html 2025-09-18 |
| 搭载罗姆SiC MOSFET的舍弗勒逆变砖开始量产 中国上海,2025年9月10日全球知名半导体制造商罗姆(总部位于日本京都市)与德国大型汽车零部件供应商舍弗勒集团(总部位于德国 https://news.ca168.com/202509/140438.html 2025-09-10 |
| 第15讲:高压SiC模块封装技术 为了实现低碳社会,能够高效电能变换的电力电子技术正在扩展到消费、工业、电气化铁路、汽车、太阳能发电和风力发电等各个领 https://news.ca168.com/202509/140369.html 2025-09-06 |
| 第14讲:工业用NX封装全SiC功率模块 https://news.ca168.com/202509/140368.html 2025-09-06 |
| 第13讲:超小型全SiC DIPIPM 三菱电机从1997年开始将DIPIPM产品化,广泛应用于空调、洗衣机、冰箱等白色家用电器,以及通用变频器、机器人等工业设备。本 https://news.ca168.com/202509/140367.html 2025-09-06 |
| 第12讲:三菱电机高压SiC芯片技术 通过使用SiC,可实现额定电压3.3kV以上的高耐压MOSFET。由于MOSFET是单极性器件,少数载流子不会积聚,所以能够实现极低的开 https://news.ca168.com/202509/140366.html 2025-09-06 |
| 第11讲:三菱电机工业SiC芯片技术 截至2024年,三菱电机已量产第二代平面栅SiC MOSFET芯片,并配套于各种模块实现产品化。图1显示了第二代平面栅SiC MOSFET的 https://news.ca168.com/202509/140364.html 2025-09-05 |
| 第10讲:SiC的加工工艺(2)栅极绝缘层 SiC可以通过与Si类似的热氧化过程,在晶圆表面形成优质的SiO2绝缘膜。这在制造SiC器件方面具有非常大的优势。在平面栅SiC MOSFE https://news.ca168.com/202509/140306.html 2025-09-04 |
| 第9讲:SiC的加工工艺(1)离子注入 SiC的杂质原子扩散系数非常小,因此无法利用热扩散工艺制造施主和受主等掺杂原子的器件结构(形成pn结)。因此,SiC器件的制造采 https://news.ca168.com/202509/140271.html 2025-09-03 |
| 第8讲:SiC外延生长技术 SiC有多种稳定的晶体多型(polytype)。因此,为了使获得的外延生长层能够继承SiC衬底的特定晶体多型,需要将衬底的原子三维排列 https://news.ca168.com/202509/140270.html 2025-09-03 |


