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| 一种新型光刻技术，突破EUV极限 据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超 https://news.ca168.com/202504/137645.html 2025-04-24 |
| 台积电狂买EUV光刻机 台积电2纳米先进制程产能将于2025年量产，设备厂正如火如荼交机，尤以先进制程所用之EUV（极紫外光曝光机）至为关键，今明两年共 https://news.ca168.com/202407/133082.html 2024-07-02 |
| EUV光刻机争夺战，正式开打 随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争 https://news.ca168.com/202405/132438.html 2024-05-29 |
| 台积电押注EUV，继续领跑芯片制造 尽管台积电不能声称自己是第一家使用极紫外 (EUV) 光刻技术的晶圆厂（这一头衔属于三星），但他们确实可以声称自己是最大的晶圆 https://news.ca168.com/202405/132302.html 2024-05-20 |
| 2nm时代来临：ASML发布第三代EUV光刻机 本周，ASML交付了第三代极紫外 (EUV) 光刻工具Twinscan NXE:3800E，其投影镜头的数值孔径为 0.33。与现有的 Twinscan NXE:3600D https://news.ca168.com/202403/131084.html 2024-03-19 |
| ASML大举投资柏林工厂，积极扩产EUV？ 据德国商报报道，芯片供应商ASML 的优势是其他欧洲公司无法比拟的。现在全球范围内也正在建设比以往更多的芯片工厂正在给这家荷 https://news.ca168.com/202311/129115.html 2023-11-21 |
| 不用EUV光刻机也能造5nm芯片，佳能开始出货相关设备，国产芯片要跟进吗？ 近日，佳能在其官网发布了一篇新闻稿，文中指出，该公司正式宣布推出FPA-1200NZ2C纳米印刷（Nanoprinted lithography）半导体制 https://news.ca168.com/202310/128327.html 2023-10-17 |
| 挑战ASML EUV光刻机？佳能推出纳米压印半导体制造设备 近期，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm https://news.ca168.com/202310/128297.html 2023-10-16 |
| ASML将EUV光刻机，卖向日本 据路透社报道，荷兰半导体设备制造商阿斯麦周二表示，该公司计划在日本北部岛屿北海道设立基地，以支持日本初创公司 Rapidus 芯 https://news.ca168.com/202309/128058.html 2023-09-27 |
| EUV光刻市场高速增长，复合年增长率21.8% EUV光刻市场预计在2023年的94亿美元基础上，到2028年将达到253亿美元，复合年增长率为21.8%。EUV光刻技术解决了传统光刻技术在分 https://news.ca168.com/202308/127109.html 2023-08-07 |